ELECTRODEPOSITION PROCESS FOR FABRICATION OF CONDUCTOR 1ST, SLM 2-MU BUBBLE MEMORY

被引:0
|
作者
BLAKESLEE, MC [1 ]
ROMANKIW, LT [1 ]
ACOSTA, RE [1 ]
KRONGELB, S [1 ]
STOEBER, B [1 ]
机构
[1] IBM CORP,THOMAS J WATSON RES CTR,YORKTOWN HTS,NY 10598
关键词
D O I
暂无
中图分类号
O646 [电化学、电解、磁化学];
学科分类号
081704 ;
摘要
引用
收藏
页码:C152 / C152
页数:1
相关论文
共 50 条