ION-IMPLANTATION IN SILICON FILMS ON SAPPHIRE

被引：8

作者：

EKLUND, KH ^{[1
]}

HOLMEN, G ^{[1
]}

PETERSTROM, S ^{[1
]}

机构：

[1] CHALMERS UNIV TECHNOL, DEPT PHYS, FACK, S-40220 GOTHENBURG, SWEDEN

来源：

APPLIED PHYSICS LETTERS | 1974年 / 24卷 / 06期

关键词：

D O I：

10.1063/1.1655184

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

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页码：283 / 284

页数：2

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