SPUTTER CLEANING AND ETCHING OF CRYSTAL SURFACES (TI,W,SI) MONITORED BY AUGER SPECTROSCOPY, ELLIPSOMETRY AND WORK FUNCTION CHANGE

被引：25

作者：

SMITH, T

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0039-6028(71)90160-9

中图分类号：

O64 [物理化学（理论化学）、化学物理学];

学科分类号：

070304 ; 081704 ;

摘要：

引用

页码：45 / +

页数：1

共 4 条

[1]

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