NANOMETER PATTERNING BY FOCUSED LOW-ENERGY ELECTRON-BEAM LITHOGRAPHY

被引：4

作者：

SUGITA, A

KAKUCHI, M

TAMAMURA, T

机构：

来源：

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS & EXPRESS LETTERS | 1987年 / 26卷 / 07期

关键词：

D O I：

10.1143/JJAP.26.L1165

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：L1165 / L1167

页数：3