INK JET PRINTING NOZZLE ARRAYS ETCHED IN SILICON

被引：87

作者：

BASSOUS, E ^{[1
]}

TAUB, HH ^{[1
]}

KUHN, L ^{[1
]}

机构：

[1] IBM CORP,THOMAS J WATSON RES CTR,YORKTOWN HTS,NY 10598

来源：

关键词：

D O I：

10.1063/1.89587

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：135 / 137

页数：3

共 7 条

[1] A WATER-AMINE-COMPLEXING AGENT SYSTEM FOR ETCHING SILICON [J].

FINNE, RM ;

KLEIN, DL .

[2] INK JET PRINTING [J].

KAMPHOEFNER, FJ .

[3] ANISOTROPIC ETCHING OF SILICON [J].

LEE, DB .

[4]

McCarthy M. J., 1974, Chemical Engineering Journal, V7, P1, DOI 10.1016/0300-9467(74)80021-3

[5] STABILITY OF AN ELECTRIFIED LIQUID JET [J].

SCHNEIDER, JM ;

LINDBLAD, NR ;

HENDRICKS, CD ;

CROWLEY, JM .

SWEET, RG .

[7]

1976, PHYSICS TODAY JAN