DIAMOND CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION

被引：140

作者：

CELII, FG ^{[1
]}

BUTLER, JE ^{[1
]}

机构：

[1] USN,RES LAB,GAS SURFACE DYNAM SECT,WASHINGTON,DC 20375

来源：

关键词：

OPTICAL DIAGNOSTICS; INSITU TECHNIQUES; GROWTH MODELING; GAS-PHASE KINETICS; NUCLEATION;

D O I：

10.1146/annurev.pc.42.100191.003235

中图分类号：

O64 [物理化学（理论化学）、化学物理学];

学科分类号：

070304 ; 081704 ;

摘要：

[No abstract available]

引用

页码：643 / 684

页数：42

共 228 条

[1]

ABYZOV AM, 1989, KINET CATAL+, V30, P796

[2]

Angus J., 1989, MRS BULL, V14, P38, DOI [10.1557/S0883769400061480, DOI 10.1557/S0883769400061480]

[3]

Angus J.C., 1986, PLASMA DEPOSITED THI, P89

ANGUS, JC ;

HAYMAN, CC .

[5]

ANTHONY TR, 1990, MATER RES SOC SYMP P, V162, P61, DOI 10.1557/PROC-162-61

[6] METASTABLE SYNTHESIS OF DIAMOND [J].

ANTHONY, TR .

[7]

Bachmann P. K., 1990, Advanced Materials, V2, P195, DOI 10.1002/adma.19900020410

[8]

Bachmann P.K., 1988, MRS S P EA, VEA-15, P99

[9] EMERGING TECHNOLOGY OF DIAMOND THIN-FILMS [J].

BACHMANN, PK ;

MESSIER, R .

[10]

BADZIAG P, 1988, SPRINGER SER SURF SC, V11, P316