EFFECT OF HEAT TREATMENT ON CHROMIUM-SILICON SCHOTTKY BARRIERS

被引：0

作者：

MHASKAR, PA

GUHA, S

机构：

来源：

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS | 1971年 / 10卷 / 02期

关键词：

D O I：

10.1143/JJAP.10.277

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

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页码：277 / +

页数：1

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