WHAT IF HIGH-QUALITY OF METALLIC DEPOSITED FILM

被引：0

作者：

HIBI, T ^{[1
]}

机构：

[1] TOHOKU UNIV,SENDAI,JAPAN

来源：

JOURNAL OF ELECTRON MICROSCOPY | 1974年 / 23卷 / 01期

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

TH742 [显微镜];

学科分类号：

摘要：

引用

收藏

页码：65 / 65

页数：1

相关论文

empty

未找到相关数据