THERMODYNAMICS OF ALN DEPOSITION BY MEANS OF ALUMINIUM-TRICHLORIDE-AMMONIA PROCESS

被引：11

作者：

ARNOLD, H ^{[1
]}

BISTE, L ^{[1
]}

KAUFMANN, T ^{[1
]}

机构：

[1] VEB ELEKTROGLAS ILMENAU,BETRIEB KOMBINAT VEB MIKROELEKTRON,DDR-63 ILMENAU,GER DEM REP

来源：

KRISTALL UND TECHNIK-CRYSTAL RESEARCH AND TECHNOLOGY | 1978年 / 13卷 / 08期

关键词：

D O I：

10.1002/crat.19780130808

中图分类号：

O7 [晶体学];

学科分类号：

0702 ; 070205 ; 0703 ; 080501 ;

摘要：

引用

页码：929 / 937

页数：9

共 24 条

[1]

[Anonymous], 1962, CHEM TRANSPORTREAKTI

ARIZUMI, T ;

NISHINAGA, T ;

OGAWA, H .

[3]

Arnold H., 1976, Kristall und Technik, V11, P17, DOI 10.1002/crat.19760110104

[4]

ARNOLD H, 1975, 20TH INT SCI C ILM, P25

BAN, VS .

[6] MASS SPECTROMETRIC STUDIES OF VAPOR-PHASE CRYSTAL GROWTH .2. GAN [J].

BAN, VS .

[7]

BAUER J, 1977, PHYS STAT SOL A, V39, P133

[8]

BISTE L, 1977, THESIS ILMENAU I TEC

[9]

BREWER L, 1950, CHEM METALLURGY MISC, P193

[10]

Faktor M.M., 1974, GROWTH CRYSTALS VAPO