PROXIMITY EFFECT CORRECTION FOR NEGATIVE RESIST IN ELECTRON-BEAM LITHOGRAPHY

被引：0

作者：

NAKAYAMA, N ^{[1
]}

MACHIDA, Y ^{[1
]}

FURUYA, S ^{[1
]}

YAMAMOTO, S ^{[1
]}

HISATSUGU, T ^{[1
]}

机构：

[1] FUJITSU LABS LTD,NAKAHARA KU,KAWASAKI,KANAGAWA 211,JAPAN

来源：

JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY | 1982年 / 129卷 / 03期

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

收藏

页码：C112 / C112

页数：1

相关论文

empty

未找到相关数据