GAS PLASMA-ETCHING OF ION-IMPLANTED CHROMIUM FILMS

被引：23

作者：

YAMAZAKI, T

SUZUKI, Y

NAKATA, H

机构：

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1980年 / 17卷 / 06期

关键词：

D O I：

10.1116/1.570668

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：1348 / 1350

页数：3

共 6 条

[1]

BERSIN BL, 1978, SOLID STATE TECHNOL, V20, P4

[2] ION-SURFACE INTERACTIONS IN PLASMA ETCHING [J].

COBURN, JW ;

WINTERS, HF ;

CHUANG, TJ .

[3]

NISHIOKA K, 1977, OCT EL SOC M ATL

[4] REVERSAL ETCHING OF CHROMIUM FILM IN GAS PLASMA [J].

YAMAZAKI, T ;

SUZUKI, Y ;

UNO, J ;

NAKATA, H .

YAMAZAKI, T ;

SUZUKI, Y ;

UNO, J ;

NAKATA, H .

[6] A DRY ETCHING TECHNIQUE USING ELECTRON-BEAM RESIST-PBS [J].

YAMAZAKI, T ;

WATAKABE, Y ;

SUZUKI, Y ;

NAKATA, H .