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GASEOUS FIELD-ION SOURCE FOR SUB-MICRON FABRICATION
被引：0
作者：
SIEGEL, BM
HANSON, GR
机构：
[1] CORNELL UNIV,SCH APPL & ENGN PHYS,ITHACA,NY 14853
[2] CORNELL UNIV,NATL RES & RESOURCE FACIL SUBMICRON STRUCT,ITHACA,NY 14853
关键词：
D O I：
暂无
中图分类号：
O646 [电化学、电解、磁化学];
学科分类号：
081704 ;
摘要：
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页码：C110 / C110
页数：1
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