SILICIDE THICKNESS CALCULATIONS AND PHASE IDENTIFICATIONS

被引：3

作者：

CHEN, JR ^{[1
]}

机构：

[1] ACAD SINICA,INST PHYS,TAIPEI 115,TAIWAN

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS | 1987年 / 5卷 / 04期

关键词：

D O I：

10.1116/1.574502

中图分类号：

TB3 [工程材料学];

学科分类号：

0805 ; 080502 ;

摘要：

引用

页码：1802 / 1805

页数：4