Quantum theory of photographic exposure

被引：48

作者：

Silberstein, L

机构：

来源：

PHILOSOPHICAL MAGAZINE | 1922年 / 44卷 / 259期

关键词：

D O I：

10.1080/14786440708633992

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

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页码：257 / 273

页数：17

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共 2 条

[1]

WILSEY RB, 1921, PHILOS MAG, V72, P262

[2]

1905, NATURE, P308