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A PHOTOELECTRIC EXPOSURE METER FOR PHOTOMICROGRAPHY
被引：1
作者：
ALDER, KF
机构：
来源：
JOURNAL OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS AND OF PHYSICS IN INDUSTRY
|
1948年
/
25卷
/
09期
关键词：
D O I：
10.1088/0950-7671/25/9/304
中图分类号：
TH7 [仪器、仪表];
学科分类号：
0804 ;
080401 ;
081102 ;
摘要：
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页码：300 / 301
页数：2
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