A NEW CLASS OF POSITIVE ELECTRON-BEAM RESISTS - METHYL-METHACRYLATE STYRENE AND BUTYL METHACRYLATE STYRENE COMB COPOLYMERS

被引：6

作者：

BAKHSHAEE, M ^{[1
]}

HAYWARD, D ^{[1
]}

AFFROSSMAN, S ^{[1
]}

SHERRINGTON, DC ^{[1
]}

PETHRICK, RA ^{[1
]}

机构：

[1] UNIV STRATHCLYDE,DEPT PURE & APPL CHEM,THOMAS GRAHAM BLDG,295 CATHEDRAL ST,GLASGOW G1 1XL,SCOTLAND

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0032-3861(88)90303-5

中图分类号：

O63 [高分子化学（高聚物）];

学科分类号：

070305 ; 080501 ; 081704 ;

摘要：

引用

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页数：5