TEMPERATURE-DEPENDENCE OF X-RAY REFLECTION INTENSITY FROM AN ABSORBING PERFECT CRYSTAL NEAR AN ABSORPTION-EDGE

被引：14

作者：

KAWAMURA, T ^{[1
]}

FUKAMACHI, T ^{[1
]}

机构：

[1] SAITAMA INST TECHNOL,DEPT ELECT ENGN,SAITAMA 36902,JAPAN

来源：

ACTA CRYSTALLOGRAPHICA SECTION A | 1979年 / 35卷 / SEP期

关键词：

D O I：

10.1107/S0567739479001881

中图分类号：

O6 [化学];

学科分类号：

0703 ;

摘要：

[No abstract available]

引用

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页数：5