DIFFUSION AND ELECTRICAL-PROPERTIES OF NICKEL IN SILICON

被引：0

作者：

KITAGAWA, H

TANAKA, S

NAKASHIMA, H

YOSHIDA, M

机构：

[1] FUKUOKA INST TECHNOL,DEPT ELECTR MAT,HIGASHI KU,FUKUOKA 81102,JAPAN

[2] KYUSHU UNIV,DEPT ELECT ENGN,HIGASHI KU,FUKUOKA 812,JAPAN

[3] KYUSHU INST DESIGN,MINAMI KU,FUKUOKA 815,JAPAN

来源：

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

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