CHANNELING STUDIES OF RADIATION-DAMAGE IN METAL-SILICIDES

被引：20

作者：

ISHIWARA, H

HIKOSAKA, K

FURUKAWA, S

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1063/1.89818

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：23 / 24

页数：2

共 7 条

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