PHOTOEMISSION INVESTIGATION OF THE TEMPERATURE EFFECT ON SI-AU INTERFACES

被引：41

作者：

ABBATI, I

BRAICOVICH, L

FRANCIOSI, A

LINDAU, I

SKEATH, PR

SU, CY

SPICER, WE

机构：

[1] STANFORD UNIV, ELECTR LABS, STANFORD, CA 94305 USA

[2] UNIV ROME, INST FIS, I-00100 ROME, ITALY

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1980年 / 17卷 / 05期

关键词：

D O I：

10.1116/1.570619

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：930 / 935

页数：6