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VACUUM-DEPOSITED SILICON DIOXIDE
被引：0
作者：
FRIMA, H
[1
]
GOLDMAN, J
[1
]
机构：
[1] ADV SEMICOND MAT,PHOENIX,AZ 85040
关键词：
D O I：
暂无
中图分类号：
O646 [电化学、电解、磁化学];
学科分类号：
081704 ;
摘要：
引用
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页码：C144 / C144
页数：1
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