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IMPLANT DIFFUSION WITH POSITION-DEPENDENT DIFFUSION-COEFFICIENT
被引:11
作者
:
COLLINS, R
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
COLLINS, R
机构
:
来源
:
RADIATION EFFECTS LETTERS
|
1981年
/ 58卷
/ 05期
关键词
:
D O I
:
10.1080/01422448108229076
中图分类号
:
TL [原子能技术];
O571 [原子核物理学];
学科分类号
:
0827 ;
082701 ;
摘要
:
引用
收藏
页码:133 / 137
页数:5
相关论文
共 12 条
[11]
DISTORTION OF DEPTH PROFILES DURING SPUTTERING .1. GENERAL DESCRIPTION OF COLLISIONAL MIXING
SIGMUND, P
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0
SIGMUND, P
GRASMARTI, A
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
GRASMARTI, A
[J].
NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS,
1980,
168
(1-3):
: 389
-
394
[12]
WINTERBON KB, 1970, MATT FYS MED DAN VID, V37
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共 12 条
[11]
DISTORTION OF DEPTH PROFILES DURING SPUTTERING .1. GENERAL DESCRIPTION OF COLLISIONAL MIXING
SIGMUND, P
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SIGMUND, P
GRASMARTI, A
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GRASMARTI, A
[J].
NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS,
1980,
168
(1-3):
: 389
-
394
[12]
WINTERBON KB, 1970, MATT FYS MED DAN VID, V37
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