INFLUENCE OF IMPURITY GASES IN UHV SYSTEMS ON AUGER-ELECTRON SPECTROSCOPY DEPTH PROFILE ANALYSIS

被引:0
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作者
MATHIEU, HJ
LANDOLT, D
机构
来源
JOURNAL DE MICROSCOPIE ET DE SPECTROSCOPIE ELECTRONIQUES | 1978年 / 3卷 / 02期
关键词
D O I
暂无
中图分类号
TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];
学科分类号
0808 ; 0809 ;
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页数:17
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