CHARACTERISTICS OF DIFFRACTION LATTICES OBTAINED BY PHOTOGRAPHIC ETCHING OF SEMICONDUCTOR SURFACE

被引：0

作者：

BELYAKOV, LV ^{[1
]}

GORYACHE.DN ^{[1
]}

MIZEROV, MN ^{[1
]}

PORTNOI, EL ^{[1
]}

机构：

[1] AF IOFFE PHYSICOTECH INST,LENINGRAD,USSR

来源：

ZHURNAL TEKHNICHESKOI FIZIKI | 1974年 / 44卷 / 06期

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

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页码：1331 / 1333

页数：3

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[1]

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