MODELING OF CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION .1. GENERAL-CONSIDERATIONS

被引：31

作者：

KOREC, J

HEYEN, M

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0022-0248(82)90101-4

中图分类号：

O7 [晶体学];

学科分类号：

0702 ; 070205 ; 0703 ; 080501 ;

摘要：

引用

页码：286 / 296

页数：11

共 21 条

[1]

ADAMSON AW, 1967, PHYSICAL CHEM SURFAC

[2]

BLOEM J, 1978, CURRENT TOPICS MATER, V1, P147

[3]

Cadoret R., 1980, CURRENT TOPICS MATER, V5, P219

[4]

Chernov A. A., 1977, Soviet Physics - Crystallography, V22, P18

CHERNOV, AA ;

RUSAIKIN, MP .

[6]

EYRING H, 1975, PHYSICAL CHEM ADV TR, P22

[7]

EYRING H, 1963, Z ELECTROCHEM, V67, P731

[8] COVERAGE EFFECTS ON BCF SURFACE DIFFUSION-MODEL [J].

GHEZ, R .

[9]

GLASSTONE S, 1965, THEORY RATE PROCESSE

[10]

GREWAND KE, 1952, THERMODIFFUSION GASE