AUTOMATED AND CALIBRATED WHOLE WAFER ETCH PIT DENSITY-MEASUREMENTS USING INFRARED TRANSMISSION

被引：0

作者：

SEWELL, JS

DUDLEY, SC

MIER, MG

LOOK, DC

WALTERS, DC

机构：

[1] USAF,AVION LAB,AFWAL,AADR,WRIGHT PATTERSON AFB,OH 45433

[2] WRIGHT STATE UNIV,DAYTON,OH 45435

来源：

JOURNAL OF ELECTRONIC MATERIALS | 1988年 / 17卷 / 04期

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

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页码：S32 / S32

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