PLASMA-ENHANCED CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION OF THIN-FILMS AND SOME OF THEIR ETCHING CHARACTERISTICS

被引：0

作者：

HOLLAHAN, JR ^{[1
]}

WAUK, MT ^{[1
]}

ROSLER, RS ^{[1
]}

机构：

[1] APPL MAT INC,SANTA CLARA,CA 95051

来源：

JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY | 1977年 / 124卷 / 08期

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

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页码：C297 / C297

页数：1

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