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TEM STUDIES OF P+ IMPLANTED AND SUBSEQUENTLY LASER ANNEALED SI
被引：0
作者：
SADANA, DK
WILSON, MC
BOOKER, GR
WASHBURN, J
机构：
[1] UNIV CALIF BERKELEY LAWRENCE BERKELEY LAB,BERKELEY,CA 94720
[2] UNIV OXFORD,DEPT MET,OXFORD,ENGLAND
关键词：
D O I：
暂无
中图分类号：
O646 [电化学、电解、磁化学];
学科分类号：
081704 ;
摘要：
引用
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页码：C362 / C362
页数：1
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