PROPERTIES OF SILICON FILMS PRODUCED BY FIELD-EMISSION DEPOSITION

被引：11

作者：

PANG, TM ^{[1
]}

PREWETT, PD ^{[1
]}

GOWLAND, L ^{[1
]}

机构：

[1] UKAEA,CULHAM LAB,ABINGDON OX14 3DB,OXON,ENGLAND

来源：

THIN SOLID FILMS | 1982年 / 88卷 / 03期

关键词：

D O I：

10.1016/0040-6090(82)90050-5

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

页码：219 / 224

页数：6

共 25 条

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