COMPUTATIONAL SIMULATION OF CHEMICAL-KINETICS AND FLUID TRANSPORT IN CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION

被引：0
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作者：
KEE, RJ
EVANS, GH
COLTRIN, ME
机构：
[1] SANDIA NATL LABS,DIV COMPUTAT MECH,LIVERMORE,CA 94551
[2] SANDIA NATL LABS,DIV SURFACE PROC,ALBUQUERQUE,NM 87185
来源：
CARBON | 1990年 / 28卷 / 06期
关键词：
D O I：
10.1016/0008-6223(90)90271-Y
中图分类号：
O64 [物理化学（理论化学）、化学物理学];
学科分类号：
070304 ; 081704 ;
摘要：
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页数：2
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