ION-BEAM-SPUTTER MODIFICATION OF SURFACE MORPHOLOGY OF BIOLOGICAL IMPLANTS

被引：21

作者：

WEIGAND, AJ ^{[1
]}

BANKS, BA ^{[1
]}

机构：

[1] NASA,LEWIS RES CTR,CLEVELAND,OH 44135

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1977年 / 14卷 / 01期

关键词：

D O I：

10.1116/1.569200

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：326 / 331

页数：6

共 15 条

[1]

BABBUSH CA, UNPUBLISHED

[2]

Boretos J W, 1971, J Biomed Mater Res, V5, P373, DOI 10.1002/jbm.820050408

[3]

BORETOS JOHN W., 1968, J BIOMED MAT RES, V2, P121, DOI 10.1002/jbm.820020109

[4]

CHIN PS, 1974, PRIM PLANTERS C RUBB

[5] ION-BEAM ETCHING [J].

GLOERSEN, PG .

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY, 1975, 12 (01) :28-35

[6]

HYMAN J, CR134685 NASA

[7]

HYMAN J, 1974, 8 CM TECHNOLOGY THRU

[8]

NAKANISHI S, 1972, AIAA721151 PAP

[9]

NOSE Y, 1976, N01HV429602 NAT I HL

[10]

PICHA G, COMMUNICATION