COMPARISON OF THE ETCHING AND PLASMA CHARACTERISTICS OF DISCHARGES IN CF4 AND NF3

被引：0

作者：

IANNO, NJ ^{[1
]}

VERDEYEN, JT ^{[1
]}

机构：

[1] UNIV ILLINOIS,DEPT ELECT ENGN,GASEOUS ELECTR LAB,URBANA,IL 61801

来源：

JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY | 1980年 / 127卷 / 03期

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

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页码：C89 / C89

页数：1

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