BORON REDISTRIBUTION IN SILICON BY THERMAL OXIDATION

被引：7
作者：
LEUENBERGER, F
机构：
来源：
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS | 1962年 / 33卷 / 09期
关键词：
D O I：
10.1063/1.1702585
中图分类号：
O59 [应用物理学];
学科分类号：
摘要：
引用
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页码：2911 / &
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