APPLICATION OF HOLOGRAPHY TO PHOTOELASTICITY

被引：59

作者：

FOURNEY, ME

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1007/BF02326248

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

页码：33 / &

共 17 条

BROOKS, RE ;

HEFLINGER, LO ;

WUERKER, RF ;

BRIONES, RA .

[2]

DRUCKER DC, 1943, T ASME, V65, pA156

[3]

FAVRE H, 1929, REV OPTIQUE, V8, P289

[4]

FAVRE H, 1929, REVUE OPT THEOR INST, V8, P193

[5]

FAVRE H, 1929, REV OPTIQUE, V8, P241

[6]

Frocht M., 1948, PHOTOELASTICITY, V2

[7] Isopachic stress patterns [J].

Frocht, MM .

[8] A NEW MICROSCOPIC PRINCIPLE [J].

GABOR, D .

[9] RECONSTRUCTED WAVEFRONTS AND COMMUNICATION THEORY [J].

LEITH, EN ;

UPATNIEKS, J .

LEITH, EN ;

UPATNIEKS, J .