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RADIATION EFFECTS ON ION-IMPLANTED SILICON-DIOXIDE FILMS
被引：2
|作者：
KATO, M
WATANABE, K
OKABE, T
机构：
关键词：
D O I：
10.1109/23.45425
中图分类号：
TM [电工技术];
TN [电子技术、通信技术];
学科分类号：
0808 ;
0809 ;
摘要：
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页码：2199 / 2204
页数：6
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