LOCAL EQUILIBRIUM-MODEL OF MORPHOLOGICAL INSTABILITIES IN CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION

被引：41
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作者：
PALMER, BJ
GORDON, RG
机构：
[1] Harvard Univ, Cambridge, MA, USA, Harvard Univ, Cambridge, MA, USA
来源：
THIN SOLID FILMS | 1988年 / 158卷 / 02期
关键词：
D O I：
10.1016/0040-6090(88)90034-X
中图分类号：
T [工业技术];
学科分类号：
08 ;
摘要：
34
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页码：313 / 341
页数：29
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