ANALYSIS OF THE TANTALUM SEGREGATION IN FILMS OF NON-STOICHIOMETRIC TASIX

被引：1

作者：

HOSLER, W

RUDNICK, W

GOBEL, H

GRABER, K

HILLMER, T

MITWALSKY, A

机构：

[1] Siemens AG, Germany

来源：

关键词：

Co-Sputtering - Extended Abstract - High-Temperature Annealing - Nonstoichiometric Films - Tantalum Segregation - Tantalum Silicide;

D O I：

10.1002/sia.740120610

中图分类号：

O64 [物理化学（理论化学）、化学物理学];

学科分类号：

070304 ; 081704 ;

摘要：

引用

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