PLANAR MAGNETRON SPUTTERING CATHODE WITH DEPOSITION RATE DISTRIBUTION CONTROLLABILITY

被引：11
作者：
ABE, K
KOBAYASHI, S
KAMEL, T
SHIMIZU, T
TATEISHI, H
AIUCHI, S
机构：
来源：
THIN SOLID FILMS | 1982年 / 96卷 / 03期
关键词：
D O I：
10.1016/0040-6090(82)90246-2
中图分类号：
T [工业技术];
学科分类号：
08 ;
摘要：
引用
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页码：225 / 233
页数：9
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共 4 条
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