GLOW-DISCHARGE DEPOSITION OF AMORPHOUS-SILICON FROM SIH3F

被引:15
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作者
MATSUDA, A
YAGII, K
KAGA, T
TANAKA, K
机构
来源
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS | 1984年 / 23卷 / 08期
关键词
D O I
10.1143/JJAP.23.L576
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
引用
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页码:L576 / L578
页数:3
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