QUANTITATIVE RUTHERFORD BACKSCATTERING SPECTROMETRY IN-DEPTH COMPOSITION ANALYSIS OF SPUTTERED TASI2 LAYERS

被引：4

作者：

SCHULTE, J ^{[1
]}

FERRETTI, R ^{[1
]}

HASSE, W ^{[1
]}

DANTO, Y ^{[1
]}

OUSTEN, Y ^{[1
]}

机构：

[1] UNIV BORDEAUX 1,F-33405 TALENCE,FRANCE

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0040-6090(86)90174-4

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

页码：183 / 188

页数：6

共 6 条

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