MICROFABRICATION OF ANTI-REFLECTIVE CHROMIUM MASK BY GAS PLASMA

被引：16

作者：

ABE, H

NISHIOKA, K

TAMURA, S

NISHIMOTO, A

机构：

[1] MITSUBISHI ELECT CORP,CENT RES LAB,AMAGASAKI,HYOGO,JAPAN

[2] MITSUBISHI ELECT CORP,KITA ITAMI WORKS,ITAMI,HYOGO,JAPAN

来源：

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS | 1976年 / 15卷

关键词：

D O I：

10.7567/JJAPS.15S1.25

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

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页码：25 / 31

页数：7

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共 5 条

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