OPTIMIZED SOURCE FOR X-RAY LITHOGRAPHY OF SMALL AREA DEVICES

被引：10

作者：

SULLIVAN, PA ^{[1
]}

MCCOY, JH ^{[1
]}

机构：

[1] HUGHES RES LABS,MALIBU,CA 90265

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1975年 / 12卷 / 06期

关键词：

D O I：

10.1116/1.568530

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：1325 / 1328

页数：4

共 7 条

[1]

BERNACKI SE, 1974, 6TH P INT C EL ION B, P34

MAYDAN, D ;

COQUIN, GA ;

MALDONADO, JR ;

SOMEKH, S ;

LOU, DY ;

TAYLOR, GN .

[3]

MCCOY JH, 1974, 6TH P INT C EL ION B, P3

[4]

SULLIVAN PA, UNPUBLISHED

[5]

Vine J., 1964, P I ELECT ENG, V111, P921, DOI [10.1049/piee.1964.0147, DOI 10.1049/PIEE.1964.0147]

[6]

WEGLEIN RD, 1973, 1973 IEEE ULTR S P M, P482

[7]

WOLF ED, 1973, 1973 ULTR S P, P510