SUBMICROMETER MICROELECTRONICS DIMENSIONAL METROLOGY - SCANNING ELECTRON-MICROSCOPY

被引：59

作者：

POSTEK, MT ^{[1
]}

JOY, DC ^{[1
]}

机构：

[1] AT&T BELL LABS, MURRAY HILL, NJ 07974 USA

来源：

JOURNAL OF RESEARCH OF THE NATIONAL BUREAU OF STANDARDS | 1987年 / 92卷 / 03期

关键词：

D O I：

10.6028/jres.092.018

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

页码：205 / 228

页数：24

共 41 条

[31]

Rez P., 1983, Ultramicroscopy, V12, P29, DOI 10.1016/0304-3991(83)90302-9

[32]

RUSSELL PE, 1984, P SOC PHOTO-OPT INST, V480, P101, DOI 10.1117/12.943054

SAMOTO, N ;

SHIMIZU, R ;

HASHIMOTO, H .

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS, 1985, 24 (04) :482-486

[34]

SEILER DG, 1984, P SOC PHOTO-OPT INST, V480, P86, DOI 10.1117/12.943052

SMITH, KCA .

JOURNAL OF MICROSCOPY-OXFORD, 1982, 127 (JUL) :3-16

[36]

STEIN R, 1986, CALIBRATING MICROSCO, P132

[37]

VOLBERT B, SEM1980IV SEM INC, P1

[38]

WELLS OC, 1984, SCANNING ELECTRON MI

[39]

YAMAJI H, SEM1985I SEM INC, P97

[40]

STP15D ASTM