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HIGH OPTICAL-QUALITY GA0.5IN0.5P GROWN BY GAS SOURCE MOLECULAR-BEAM EPITAXY
被引:0
作者
:
CHENG, KY
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0
机构:
UNIV ILLINOIS,CTR COMPOUND SEMICOND MICROELECTR,URBANA,IL 61801
CHENG, KY
BAILLARGEON, JN
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UNIV ILLINOIS,CTR COMPOUND SEMICOND MICROELECTR,URBANA,IL 61801
BAILLARGEON, JN
HSIEH, KC
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HSIEH, KC
NAM, DW
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NAM, DW
VESELY, E
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VESELY, E
FERNANDEZ, GE
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FERNANDEZ, GE
HOLONYAK, N
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HOLONYAK, N
FU, RJ
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UNIV ILLINOIS,CTR COMPOUND SEMICOND MICROELECTR,URBANA,IL 61801
FU, RJ
机构
:
[1]
UNIV ILLINOIS,CTR COMPOUND SEMICOND MICROELECTR,URBANA,IL 61801
[2]
BOEING AEROSP & ELECTR,SEATTLE,WA 98124
来源
:
JOURNAL OF ELECTRONIC MATERIALS
|
1990年
/ 19卷
/ 07期
关键词
:
D O I
:
暂无
中图分类号
:
TM [电工技术];
TN [电子技术、通信技术];
学科分类号
:
0808 ;
0809 ;
摘要
:
引用
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