SELECTIVE OXIDATION OF SILICON IN LOW-TEMPERATURE HIGH-PRESSURE STEAM

被引：14
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作者：
POWELL, RJ
LIGENZA, JR
SCHNEIDER, MS
机构：
[1] RCA LABS, PRINCETON, NJ 08540 USA
[2] BELL TEL LABS INC, MURRAY HILL, NJ 07974 USA
来源：
IEEE TRANSACTIONS ON ELECTRON DEVICES | 1974年 / ED21卷 / 10期
关键词：
D O I：
10.1109/T-ED.1974.17982
中图分类号：
TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];
学科分类号：
0808 ; 0809 ;
摘要：
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页数：5
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