STUDY OF THE DEPTH PROFILE OF PHOSPHORUS DIFFUSION IN SILICON BY AUGER-ELECTRON SPECTROSCOPY

被引：0

作者：

KOSTISHKO, BM

ORLOV, AM

LEVKINA, TG

机构：

来源：

INORGANIC MATERIALS | 1994年 / 30卷 / 06期

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

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页码：794 / 795

页数：2

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共 4 条

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