REACTIVE FAST-ATOM BEAM ETCHING OF GAAS USING CL2 GAS

被引:53
作者
SHIMOKAWA, F
TANAKA, H
UENISHI, Y
SAWADA, R
机构
关键词
D O I
10.1063/1.344228
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
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页码:2613 / 2618
页数:6
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