PROSPECTS OF A PLASMA-FOCUS DEVICE AS AN INTENSE X-RAY SOURCE FOR FINE LINE LITHOGRAPHY

被引：0
作者：
KUYEL, B
机构：
来源：
PROCEEDINGS OF THE SOCIETY OF PHOTO-OPTICAL INSTRUMENTATION ENGINEERS | 1981年 / 275卷
关键词：
D O I：
暂无
中图分类号：
O43 [光学];
学科分类号：
070207 ; 0803 ;
摘要：
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页码：44 / 51
页数：8
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