SELECTIVE DEPOSITION OF HIGH-PURITY COPPER-FILMS BY CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION (CVD)

被引：0

作者：

NORMAN, JA ^{[1
]}

ROBERTS, DA ^{[1
]}

HOCHBERG, AK ^{[1
]}

机构：

[1] SCHUMACHER,CARLSBAD,CA 92009

来源：

ABSTRACTS OF PAPERS OF THE AMERICAN CHEMICAL SOCIETY | 1995年 / 209卷

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

O6 [化学];

学科分类号：

0703 ;

摘要：

引用

页码：73 / INOR