SUBMICROMETER PATTERNING BY PROJECTED EXCIMER-LASER-BEAM INDUCED CHEMISTRY

被引：39
作者：
EHRLICH, DJ
TSAO, JY
BOZLER, CO
机构：
来源：
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B | 1985年 / 3卷 / 01期
关键词：
D O I：
10.1116/1.583226
中图分类号：
TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];
学科分类号：
0808 ; 0809 ;
摘要：
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页数：8
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共 22 条
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